姓名： 陈成
出生年月：1988.03 邮箱：chenc@szu.edu.cn
研究方向：（1）低能电子照射加工制造（2）碳基薄膜摩擦学行为调控（3）碳基薄膜柔性压阻器件制造
教育背景：
2006.9-2010.7 西安交通大学 机械工程学院 机械工程及自动化 工学学士
2010.9-2011.7 西安交通大学 机械工程学院 机械设计及理论 硕博连读
2011.9-2015.7 西安交通大学 机械工程学院 机械设计及理论 工学博士
工作履历：
2015.8-2018.3 深圳大学 机电与控制工程学院 光学工程博士后流动站 博士后
2018.4-至今 深圳大学 机电与控制工程学院 纳米表面科学与工程研究所 助理教授
主持项目：
（1）国家自然科学基金青年科学基金项目：超薄纳晶石墨烯层诱导的近零磨合期低摩擦行为研究。 项目编号：51705331 2018年01月-2020年12月 在研
（2）中国博士后科学基金面上资助项目（一等资助）：超薄纳晶石墨烯薄膜的高灵敏压阻原理研究。 项目编号：2016M600666 2016年10月-2017年12月 已结题
（3）广东省自然科学基金-博士启动：基于低能电子照射的石墨烯缺陷结构可控制造及场效应晶体管应用研究。 项目编号：2016A030310041 2016年6月-2019年6月 在研
期刊论文：
[1] Cheng Chen, Peidong Xue, Xue Fan, Chao Wang, Dongfeng Diao, Friction-induced rapid restructuring of graphene nanocrystallite cap layer at sliding surfaces: short run-in period, Carbon, 130：215-221 (2018). (JCR一区, IF: 7.082)
[2] Cheng Chen, Xue Fan, Dongfeng Diao, Low-energy electron irradiation induced top-surface nanocrystallization of amorphous carbon film, Applied Surface Science, 384:341–347 (2016). (JCR一区, IF: 3.387)
[3] Cheng Chen, Chao Wang, Dongfeng Diao, Low energy electron irradiation induced carbon etching: Triggering carbon film reacting with oxygen from SiO2 substrate, Applied Physics Letters, 109:053104(2016). (JCR二区, IF: 3.411)
[4] Cheng Chen, Dongfeng Diao, Xue Fan, Lei Yang and Chao Wang, Frictional behavior of carbon film embedded with controlling-sized graphene nanocrystallites, Tribology Letters, 55:429-435 (2014). (JCR二区, IF: 1.793)
[5] Cheng Chen, Dongfeng Diao, Tribological thermostability of carbon film with vertically aligned graphene sheets, Tribology Letters, 50(3):305-311 (2013) (JCR二区, IF: 2.151).
[6] Chao Wang, Cheng Chen, Dongfeng Diao, "Top surface modification of carbon film on its structure, morphology and electrical resistivity using electron-ion hybrid irradiation in ECR plasma" Surface and Coatings Technology. 308:50-56(2016) (JCR二区, IF: 2.589).
[7] Chao Wang, Dongfeng Diao, Xue Fan, Cheng Chen, Graphene sheets embedded carbon film prepared by electron irradiation in electron cyclotron resonance plasma. Applied Physics Letters. 100:231909 (2012) (JCR二区,IF:3.794).
会议论文：
[1] Cheng Chen, Peidong Xue, Dongfeng Diao, A key technology for reducing frictional run-in period of amorphous carbon film, 6th World Tribology Congress, Beijing, China, 2017, 9, 17-22
[2] Cheng Chen, Saizhou Qiu, Dongfeng Diao, Tuning run-in friction behavior of carbon film with graphene nanocrystallite structure, 44th International Conference on Metallurgical Coatings and Thin Films, San Diego, USA, 2017, 4, 24-28.
[3] Cheng Chen, Dongfeng Diao, Xue Fan, Graphene nanocrystal size effect on frictional behavior of carbon film fabricated by electron irradiation in electron cyclotron resonance plasma, 5th World Tribology Congress, Turin, Italy, 2013, 9, 8-13.
专利：
[1] 刁东风，范雪，陈成， 一种ECR等离子体溅射装置及其溅射方法，专利号：ZL 201610103436.2，申请日期：2016年2月25日，授权日期：2018年1月2日
[2] 刁东风，陈成，郭美玲，范雪，一种ECR电子照射密度控制碳膜中纳晶石墨烯尺寸的方法。受理号：CN201410142670.7，公开日期：2014年07月23日；授权日期：2016年5月10日。